02 1月 Novec™(ノベック)
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商品
Novec™(ノベック)
フッ素系溶剤が、品質向上や環境対策のお手伝いをいたします。
商品番号:SH-006_1
価格:別途お問合せ下さい。
特長
- オゾン破壊係数がゼロで低温室効果です。
- 適度な溶解性があります。
- 各種材料との適合性にすぐれています。
- 実際上無毒で、安全性の高い物質です。
- 引火点がありません。
- 浸透性と、乾燥性に優れています。
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代表物性値 | NovecTM 7100 | NovecTM 7200 | NovecTM 71IPA |
---|---|---|---|
化学式 | C4F9OCH3 | C4F9OC2H5 | NovecTM 7100(95%),IPA(5%) |
沸点(℃) | 61 | 76 | 54.5 |
表面張力(mN/m) | 13.6 | 13.6 | 14.0 |
KB値 | 10 | 10 | 10 |
引火点 | なし | なし | なし |
精密洗浄用途
- ハードディスクドライブ製品
- 液晶パネル
- フッ素堆積物(デポジット)
- イオン性の汚れ
- フッ素グリース・オイル
- FOUP
- チリ・ホコリなどの洗浄・除去
溶剤用途
- ハードディス用ルブリカントの溶剤
- フッ素系コーティング剤の溶剤
- 引火点調整
冷却用途
- 2次冷却用ブライン
- 低温試験用溶媒
地球温暖化係数 | (GWP)データ* |
---|---|
CFC-113 | 6000 |
NovecTM 7100 | 320 |
NovecTM 7200 | 55 |
適度な溶解性と材料適合性を備え、すぐれた洗浄溶剤として使用できます。
引火点のない安全な物質で、装置や周辺機器への負担が少なく、装置の小型化・省スペース化にも貢献。従来のフロンよりも沸点が高く、蒸発による損失も少なくできます。
汚れの程度に併せて3種類の洗浄方法があります。
- NovecTM のNeat洗浄:単一成分の洗浄剤一液で洗う洗浄方法
汚れ:軽質油、ハロゲン系潤滑油、ゴミ、フッ素化合物による汚れ- 蒸気洗浄や超音波洗浄との併用で効果を発揮。フッ素オイルや半導体製造装置の汚れの洗浄にも適しています。
- 蒸気洗浄や超音波洗浄との併用で効果を発揮。フッ素オイルや半導体製造装置の汚れの洗浄にも適しています。
- NovecTM のCo-Solvent洗浄:洗浄剤とリンス剤を組み合わせて行う洗浄方法
汚れ:重質油、グリース、シリコーングリース、コンパウンド、指紋、シリコーンオイル、潤滑剤、フラックス、液晶- 炭化水素系やグリコールエーテル系など、洗浄力の高い洗浄剤との組み合わせによる洗浄方法です。炭化水素系の洗浄剤と適度な相容性を持ち、洗浄剤使用後のすすぎ特性にすぐれ、残さの少ない洗浄が可能です。また洗浄槽内はNovecTM の蒸気で覆われ不燃となるため安全です。装置や周辺機器への負担が小さく、装置の小型化・省スペース化にも貢献します。フロンなど従来の洗浄剤よりも沸点が高く、蒸発による損失も少なくてすみます。
- 炭化水素系やグリコールエーテル系など、洗浄力の高い洗浄剤との組み合わせによる洗浄方法です。炭化水素系の洗浄剤と適度な相容性を持ち、洗浄剤使用後のすすぎ特性にすぐれ、残さの少ない洗浄が可能です。また洗浄槽内はNovecTM の蒸気で覆われ不燃となるため安全です。装置や周辺機器への負担が小さく、装置の小型化・省スペース化にも貢献します。フロンなど従来の洗浄剤よりも沸点が高く、蒸発による損失も少なくてすみます。
- NovecTM の水切り乾燥システム:水系洗浄システムの乾燥工程に使用し、ワークに熱的ダメージを与えずに乾燥できます。
対象部品:弱耐熱性部品、複雑形状品、レンズ、ミラー、HDD関連- 水系洗浄システムにおいて、水を除去し、部品表面にシミを残さないための方法のことをいいます。水切りの手段としては古くからフッ素系溶剤にアルコールや界面活性剤を添加する方法がありますが、NovecTM 71IPAはIPAを添加したタイプです。
NovecTM 71IPAによる水切りの原理
NovecTM に含まれるIPAがワークに付着した水に溶解し、ワークと水の界面張力を低下させます。その後、付着水はNovecTM と比重差があるため、ワークから剥離しNovec液面上へ浮上し水切り乾燥が行われます。
NovecTM は、スリーエム ジャパンの商標です。
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