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Novec™(ノベック)

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Novec™(ノベック)

フッ素系溶剤が、品質向上や環境対策のお手伝いをいたします。

商品番号:SH-006_1
価格:別途お問合せ下さい。

特長

  • オゾン破壊係数がゼロで低温室効果です。
  • 適度な溶解性があります。
  • 各種材料との適合性にすぐれています。
  • 実際上無毒で、安全性の高い物質です。
  • 引火点がありません。
  • 浸透性と、乾燥性に優れています。

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代表物性値 NovecTM 7100 NovecTM 7200 NovecTM 71IPA
化学式 C4F9OCH3 C4F9OC2H5 NovecTM 7100(95%),IPA(5%)
沸点(℃) 61 76 54.5
表面張力(mN/m) 13.6 13.6 14.0
KB値 10 10 10
引火点 なし なし なし

精密洗浄用途

  • ハードディスクドライブ製品
  • 液晶パネル
  • フッ素堆積物(デポジット)
  • イオン性の汚れ
  • フッ素グリース・オイル
  • FOUP
  • チリ・ホコリなどの洗浄・除去

溶剤用途

  • ハードディス用ルブリカントの溶剤
  • フッ素系コーティング剤の溶剤
  • 引火点調整

冷却用途

  • 2次冷却用ブライン
  • 低温試験用溶媒
地球温暖化係数 (GWP)データ*
CFC-113 6000
NovecTM 7100 320
NovecTM 7200 55

(WMO.1998及びスリーエム ジャパン資料)
*GWP:Global Warming Potential=CO2(二酸化炭素)を基準とし、CO2を1とした場合の各物質の温暖化係数を示します。

適度な溶解性と材料適合性を備え、すぐれた洗浄溶剤として使用できます。
引火点のない安全な物質で、装置や周辺機器への負担が少なく、装置の小型化・省スペース化にも貢献。従来のフロンよりも沸点が高く、蒸発による損失も少なくできます。

汚れの程度に併せて3種類の洗浄方法があります。

  • NovecTM のNeat洗浄:単一成分の洗浄剤一液で洗う洗浄方法
    汚れ:軽質油、ハロゲン系潤滑油、ゴミ、フッ素化合物による汚れ

    • 蒸気洗浄や超音波洗浄との併用で効果を発揮。フッ素オイルや半導体製造装置の汚れの洗浄にも適しています。
  • NovecTM のCo-Solvent洗浄:洗浄剤とリンス剤を組み合わせて行う洗浄方法
    汚れ:重質油、グリース、シリコーングリース、コンパウンド、指紋、シリコーンオイル、潤滑剤、フラックス、液晶

    • 炭化水素系やグリコールエーテル系など、洗浄力の高い洗浄剤との組み合わせによる洗浄方法です。炭化水素系の洗浄剤と適度な相容性を持ち、洗浄剤使用後のすすぎ特性にすぐれ、残さの少ない洗浄が可能です。また洗浄槽内はNovecTM の蒸気で覆われ不燃となるため安全です。装置や周辺機器への負担が小さく、装置の小型化・省スペース化にも貢献します。フロンなど従来の洗浄剤よりも沸点が高く、蒸発による損失も少なくてすみます。
  • NovecTM の水切り乾燥システム:水系洗浄システムの乾燥工程に使用し、ワークに熱的ダメージを与えずに乾燥できます。
    対象部品:弱耐熱性部品、複雑形状品、レンズ、ミラー、HDD関連

    • 水系洗浄システムにおいて、水を除去し、部品表面にシミを残さないための方法のことをいいます。水切りの手段としては古くからフッ素系溶剤にアルコールや界面活性剤を添加する方法がありますが、NovecTM 71IPAはIPAを添加したタイプです。

NovecTM 71IPAによる水切りの原理

NovecTM に含まれるIPAがワークに付着した水に溶解し、ワークと水の界面張力を低下させます。その後、付着水はNovecTM と比重差があるため、ワークから剥離しNovec液面上へ浮上し水切り乾燥が行われます。

NovecTM は、スリーエム ジャパンの商標です。

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